- 1965年(昭和40)
- 7月1日、千里山の関大前において「ガスレーザー装置」の開発・製造を目的に会社設立。資本金160万円。
- (センの名前の由来です）
- 1966年(昭和41)
- HeNeガスレーザー、CO2ガスレーザー、CNレーザー、Arレーザー、を一通り開発したが、時期が早すぎ商品化に至らず。
- 1973年(昭和48)
- 国産では最大級の低圧水銀ランプ（SUV110D）を開発。この時から紫外線の分野に係わる。
- 1975年(昭和50)
- 大阪府新技術新製品開発補助金を受けて、低圧水銀ランプを応用した紫外線オゾン同時発生管を開発。
- 1976年(昭和51)
- 紫外線オゾン併用水処理装置（ユーゾン）を開発。この時から水処理分野に参入。
- 1983年(昭和58)
- 神奈川県工業試験場が開発した「排水の光オゾン酸化処理装置」の実用新案実施権を、県から取得。水処理装置の比重が高まる。
- 1984年(昭和59)
- 大阪府先端技術産業育成融資を受ける。
- テーマ：半導体等の製造プロセス用遠紫外線光源システムの開発。この時から光表面処理分野に参入。
- 1985年(昭和60)
- 増資。資本金640万円となる。
- 1987年(昭和62)
- 通産省から、技術改善補助金を受ける。
- テーマ：光オゾンによる用排水中の有機塩素化合物の除去
- 東京営業所を開設。
- 1988年(昭和63)
- 現、本社工場を建設。
- 1995年(平7)
- 増資。資本金2,560万円となる。
- 大和銀投資育成（株）引受で、4,800万円の転換社債発行。
- 1997年(平9)
- 3月1日、本社工場から徒歩2分の所に、機器工場としての第2工場を開設。
- 1998年(平10)
- 大阪営業所を、本社工場から機器工場同所に移転。本社工場はランプ製造専門の工場となる。
- 1999年(平11)
- 12月 大阪府より創造的事業活動促進法の認定を受ける。
- 2000年(平12)
- 2月 CEマーキング取得
4月 ミニ・バイオクリーンの発売開始
- 10月 機器工場内にクリーンルームを新設
11月 特許取得：【金属表面の改質方法】
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- 2001年(平13)
- １月 東京営業所移転
5月 ISO14001を取得
７月 （財）大阪産業振興機構から、産学共同研究事業補助金を受ける。
テーマ： 超音波装置と紫外線・オゾン分解装置を組合せた新しい脱色システム
- 2002年(平14）
- 9月 中小金融公庫 成長新事業特別融資先に選定される（2002年大阪第一号）
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